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薄膜X線回折法によるITO膜の測定
 薄膜X線回折法は入射X線を低角度入射させる事により、X線の分析深さを浅くして、下地の妨害線を減少させ、表面層の分析感度を高める手法です。
 ガラス材料表面にコートされたITO膜を標準法(θ-2θ法)で測定すると、 下地のガラスのハローピークが妨害線となりITO膜の結晶化の評価をが難しくなります。
 図1.に標準法と薄膜法低角度入射0.5°の回折線の比較を示しますが、0.5°入射では妨害線となるガラスのハローピークは減少し、 2θ=21°近傍の(211)面の回折線も明瞭に検出されました。
 このような微小な回折線の検出感度が向上する事により、微細な結晶構造の回折が可能となり、 種々の薄膜試料の測定に活用されています。

  図1 ITO膜の測定例
  図1 ITO膜の測定例